溅射靶材

发明专利有效专利

申请号：
CN201780028481.9
IPC分类号：C23C14/34;C22C19/03;G11B5/738;G11B5/851;B22F1/00
申请日期：
2017-05-22
申请人：
山阳特殊制钢株式会社

基础信息

权利要求

说明书

PDF全文

法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	溅射靶材
申请号	CN201780028481.9	申请日期	2017-05-22
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2018-12-21	公开/公告号	CN109072419A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C23C14/34 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C2 冶金 C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕 C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆（挤压法制造包覆金属的产品入B21C23/22；通过将预先存在的薄层连接到制品上的方法用金属进行镀覆处理的见各有关位置，例如B21D39/00，B23K；玻璃的金属化入C03C；砂浆、混凝土、人造石、陶瓷或天然石的金属化入C04B41/00；金属的搪瓷或向金属上镀覆玻璃体层入c23D；用电解法或电泳法处理金属表面或镀覆金属入C25D；单晶膜生长入C30B；纺织品的金属化入D06M11/83；用局部金属化法装饰纺织品入D06Q1/04）〔4〕 C23C14/00 通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆〔4，2006.01〕 C23C14/22 以镀覆工艺为特征的〔4〕 C23C14/34 溅射〔4〕	IPC分类号	C;2;3;C;1;4;/;3;4;;;C;2;2;C;1;9;/;0;3;;;G;1;1;B;5;/;7;3;8;;;G;1;1;B;5;/;8;5;1;;;B;2;2;F;1;/;0;0查看分类表>
申请人	山阳特殊制钢株式会社	申请人地址	日本兵库县变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	山阳特殊制钢株式会社	当前权利人	山阳特殊制钢株式会社
发明人	长谷川浩之;新村梦树
代理机构	中科专利商标代理有限责任公司	代理人	任岩

摘要

本发明提供一种溅射靶材，其特征在于，即使不使用纯Ta也能够提高溅射靶材的强度，防止溅射时的裂纹及颗粒，并且能够防止溅射膜的组成不均。本发明提供的溅射靶材的特征在于，以at.％计含有35～50％的Ta，余量由Ni及不可避免的杂质构成，且仅由Ni2Ta化合物相和NiTa化合物相构成，所述Ni2Ta化合物相及所述NiTa化合物相的显微组织的最大内接圆直径为10μm以下。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有被任何外部专利所引用！

我浏览过的专利

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供