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在先进图案化工艺中用于间隔物沉积与选择性移除的设备与方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201680031800.7
  • IPC分类号:H01L21/033
  • 申请日期:
    2016-05-24
  • 申请人:
    应用材料公司
著录项信息
专利名称在先进图案化工艺中用于间隔物沉积与选择性移除的设备与方法
申请号CN201680031800.7申请日期2016-05-24
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2018-02-23公开/公告号CN107735851A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L21/033IPC分类号H;0;1;L;2;1;/;0;3;3查看分类表>
申请人应用材料公司申请人地址
美国加利福尼亚州 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人应用材料公司当前权利人应用材料公司
发明人周杰;殷正操;尚布休·N·罗伊;斯里尼瓦斯·D·内曼尼;刘菁菁;冶利.Y.叶
代理机构北京律诚同业知识产权代理有限公司代理人徐金国;赵静
摘要
本文的实施方式提供在多重图案化工艺中用于在间隔物层上进行具有良好轮廓控制的沉积和图案化工艺的设备和方法。在一个实施方式中,一种在多重图案化工艺期间沉积和图案化间隔物层的方法包括以下步骤:在设在基板上的图案化结构的外表面上保形地形成间隔物层,其中所述图案化结构间界定有第一组开口;选择性地处理形成在基板上的间隔物层的第一部分,而不处理间隔物层的第二部分;以及选择性地移除间隔物层经处理的第一部分。

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