一种表面缺陷检测装置及方法

发明专利有效专利

申请号：
CN202110063814.X
IPC分类号：G01N21/88;G01N21/958
申请日期：
2021-01-18
申请人：
上海御微半导体技术有限公司

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	一种表面缺陷检测装置及方法
申请号	CN202110063814.X	申请日期	2021-01-18
法律状态	实质审查	申报国家	暂无
公开/公告日	2021-05-14	公开/公告号	CN112798605A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G01N21/88 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G01 测量；测试 G01N （除免疫测定法以外包括酶或微生物的测量或试验入C12M，C12Q） G01N21/00 利用光学手段，即利用红外光、可见光；或紫外光来测试或分析材料（G01N 3/00至G01N 19/00优先） G01N21/84 专用于特殊应用的系统〔3〕 G01N21/88 测试瑕疵、缺陷或污点的存在〔3〕	IPC分类号	G;0;1;N;2;1;/;8;8;;;G;0;1;N;2;1;/;9;5;8查看分类表>
申请人	上海御微半导体技术有限公司	申请人地址	上海市浦东新区中国(上海)自由贸易试验区芳春路400号1幢3层变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	上海御微半导体技术有限公司	当前权利人	上海御微半导体技术有限公司
发明人	张鹏黎
代理机构	北京品源专利代理有限公司	代理人	孟金喆

摘要

本发明公开了一种表面缺陷检测装置及方法，该装置包括工件台，第一检测单元、第二检测单元和控制器，工件台承载待测物，第一检测单元位于待测物第一表面的上方，第二检测单元位于待测物第二表面的下方，第一检测单元和第二检测单元中的光源单元出射光束，并经过物镜单元入射至待测物表面，光束经待测物表面反射或散射形成反射或散射光束，采集单元采集反射或散射光束生成待测物表面图像；控制器控制工件台承载待测物运动，并根据第一表面图像识别第一表面的缺陷，根据第二表面图像识别第二表面的缺陷，实现同时检测待测物上下表面的缺陷，提高检测效率。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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