气体压力计、光刻设备及在光刻曝光工具上设定焦点的方法

发明专利有效专利

申请号：
CN201510100335.5
IPC分类号：G01B13/12;G03F7/20
申请日期：
2009-02-17
申请人：
ASML控股股份有限公司

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法律信息

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著录项信息

专利名称	气体压力计、光刻设备及在光刻曝光工具上设定焦点的方法
申请号	CN201510100335.5	申请日期	2009-02-17
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2015-06-17	公开/公告号	CN104713502A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G01B13/12 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G01 测量；测试 G01B 长度、厚度或类似线性尺寸的计量；角度的计量；面积的计量；不规则的表面或轮廓的计量 G01B13/00 以采用流体为特征的计量设备 G01B13/12 用于计量相隔的物体或孔的间距或间隙（G01B 13/18优先）	IPC分类号	G;0;1;B;1;3;/;1;2;;;G;0;3;F;7;/;2;0查看分类表>
申请人	ASML控股股份有限公司	申请人地址	荷兰维德霍温变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	ASML控股股份有限公司	当前权利人	ASML控股股份有限公司
发明人	G·A·斯库尔特兹
代理机构	中科专利商标代理有限责任公司	代理人	张启程

摘要

在本发明的一个实施例中，提供一种用于真空环境中的气体压力计、光刻设备及在光刻曝光工具上设定焦点的方法。所述气体压力计包括：在测量气流通道中的测量喷嘴。所述测量喷嘴配置成在来源于连接到所述测量气流通道的气体源的体积流动的音速阻扼流动条件下操作。气体压力计还包括压力传感器，其可操作地连接到测量气流通道、在所述体积流动的音速阻扼流动条件的下游，以便测量所述体积流动的压差，用于提供对所述测量喷嘴的末端和与其邻近的目标表面之间的间隙的指示。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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