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一种LED外延晶层生产工艺

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202110660374.6
  • IPC分类号:H01L21/02;H01L33/00
  • 申请日期:
    2021-06-15
  • 申请人:
    上海璞徽机械设备有限公司
著录项信息
专利名称一种LED外延晶层生产工艺
申请号CN202110660374.6申请日期2021-06-15
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2021-09-14公开/公告号CN113394077A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L21/02IPC分类号H;0;1;L;2;1;/;0;2;;;H;0;1;L;3;3;/;0;0查看分类表>
申请人上海璞徽机械设备有限公司申请人地址
山东省日照市经济开发区北京路街道兖州南路与舟山路交汇处创新创业产业园1号楼 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人纬翔华创(山东)智能电子科技有限公司当前权利人纬翔华创(山东)智能电子科技有限公司
发明人池佳洁
代理机构广东灵顿知识产权代理事务所(普通合伙)代理人梁鹤鸣
摘要
本发明提供了一种LED外延晶层生产工艺,属于半导体生产技术领域。它解决了现有的外延设备对于衬底的形态为固定设置,导致原气体通入时,位于最前方的衬底优先形成晶层,但反应后的废气掺杂在原气体中与后方的衬底接触,进而对后方的晶层形成造成一定影响,且反应进行前选择将清理后的衬底安装于装置内,衬底在运输过程中暴露在空气中,导致空气中的灰尘、杂质贴敷在衬底上,进一步对晶层的形成造成影响的问题。本LED外延晶层生产工艺由反应筒、两个底座、密封门、加热腔、进气口、排气口、储气机构、支撑机构、夹紧机构、梳理机构配合完成相应的处理操作。本LED外延晶层生产工艺使用基片清理更加彻底、成晶更加均匀、稳定。

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