有机金属铜络合物的铜薄膜的化学汽相淀积制备法

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专利名称	有机金属铜络合物的铜薄膜的化学汽相淀积制备法
申请号	CN01143189.X	申请日期	2001-11-06
法律状态	撤回	申报国家	暂无
公开/公告日	2002-08-14	公开/公告号	CN1363720
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	暂无	IPC分类号	暂无查看分类表>
申请人	宇部兴产株式会社	申请人地址	日本山口县变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	宇部兴产株式会社	当前权利人	宇部兴产株式会社
发明人	角田巧;高井勉;绵贯耕平
代理机构	中国专利代理（香港）有限公司	代理人	庞立志;杨丽琴

摘要

一种有下面结构式的有机金属铜络合物有益地用于用化学汽相淀积法制备金属铜膜，其中R1和R2各自是烷基或全氟烷基;R3是氢、氟或全氟烷基;和R4到R7中至少一个是有右下结构式的基团，其中Ra是亚烷基,Rb、Rc和Rd各自是烷基,和M是氧或硫,其余各自是氢或烷基。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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