离子选择性膜、其制造方法、其用途和装有该膜的仪器

发明专利无效专利

申请号：
CN00104174.6
IPC分类号：--
申请日期：
2000-02-22
申请人：
大日精化工业株式会社

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法律信息

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著录项信息

专利名称	离子选择性膜、其制造方法、其用途和装有该膜的仪器
申请号	CN00104174.6	申请日期	2000-02-22
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日	2000-09-06	公开/公告号	CN1265334
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	暂无	IPC分类号	暂无查看分类表>
申请人	大日精化工业株式会社	申请人地址	日本东京都变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	大日精化工业株式会社	当前权利人	大日精化工业株式会社
发明人	福冨兀;杉户善文;泷泽稔;小熊尚实;土居诚司;中村道卫
代理机构	北京市柳沈律师事务所	代理人	范明娥

摘要

一种离子选择性膜，是由离子选择性膜形成成分和定形编织物衬底整体形成的。该离子选择性膜形成成分包括一种阳离子聚合物成分和/或一种阴离子聚合物成分以及一种基质成分。每种离子聚合物成分是平均粒径在0.01-10μm的粒状聚合物。该定形编织物衬底具有网状结构。离子选择性膜的生产是通过保持一层涂布制剂与该定形编织物衬底紧密接触而形成该膜，涂布制剂中的离子聚合物成分分散于基质在有机溶剂中的溶液或分散体中。该离子选择性膜可用于电解质渗透。也提供了一种装有该离子选择性膜的仪器。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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