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用于X射线探伤后处理的定位标识系统

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN201210204424.0
  • IPC分类号:G01N23/00
  • 申请日期:
    2012-06-20
  • 申请人:
    武汉工程大学
著录项信息
专利名称用于X射线探伤后处理的定位标识系统
申请号CN201210204424.0申请日期2012-06-20
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日2012-10-17公开/公告号CN102735699A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G01N23/00IPC分类号G;0;1;N;2;3;/;0;0查看分类表>
申请人武汉工程大学申请人地址
湖北省武汉市洪山区雄楚大街693号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人武汉工程大学当前权利人武汉工程大学
发明人杨侠;刘丰良;杨清
代理机构湖北武汉永嘉专利代理有限公司代理人周艳红
摘要
一种用于X射线探伤后处理的定位标识系统,包括机体底座、二维导轨机构、激光打标机构、数控系统、计算机和图像采集器;机体底座上设有用于放置待测工件的工作台,工作台表面设有三个不共线的点铅标;二维导轨机构包括纵向导轨机构和横向导轨机构,两导轨机构分别包括导轨、丝杠、滑块、电机和位置控制单元,纵向导轨机构设置于机体底座上,横向导轨机构设置于纵向导轨机构的滑块上;激光打标机构与计算机连接并设置于横向导轨机构的滑块下端;数控系统与纵向导轨机构和横向导轨机构的位置控制单元以及计算机分别连接,用于根据计算机的指令控制纵向导轨机构和横向导轨机构的动作;图像采集器与计算机连接,用于采集X射线底片信息。

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