图案化雾面转印膜结构

实用新型专利无效专利

申请号：
CN201020613801.2
IPC分类号：B41M5/44;B44C1/165
申请日期：
2010-11-19
申请人：
琨诘电子（昆山）有限公司

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著录项信息

专利名称	图案化雾面转印膜结构
申请号	CN201020613801.2	申请日期	2010-11-19
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日		公开/公告号
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	B41M5/44 ? IPC结构图谱： B 作业；运输 B4 印刷 B41 印刷；排版机；打字机；模印机〔4〕 B41M 印刷、复制、标记或拷贝工艺；彩色印刷（排印上的错误校正入B41J；提供转印图片或类似的方法入B44C 1/16；通过涂敷来校正印刷错误的液体介质入C09D 10/00；印刷纺织品入D06P） B41M5/00 复制或标记方法；供其使用的单张材料（用感光材料的入G03；电铸凹版法、磁性印刷法入G03G） B41M5/26 热压凸印法（B41M 5/20、B41M 5/24优先；光热敏物体系入G03C 1/498）〔5〕 B41M5/40 以底层、中间层或表层为特征；渗透或吸收热、辐射的方法或涂层；与涂层或合成物相结合以适合于其他的图像配准方法；用于通过热凸印法进行复制的特殊原稿〔5〕 B41M5/42 中间层或覆盖层〔8〕 B41M5/44 以高分子化合物为特征的〔8〕	IPC分类号	B;4;1;M;5;/;4;4;;;B;4;4;C;1;/;1;6;5查看分类表>
申请人	琨诘电子（昆山）有限公司	申请人地址	江苏省苏州市昆山市张浦镇滨江北路358号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	琨诘电子（昆山）有限公司	当前权利人	琨诘电子（昆山）有限公司
发明人	韩久康
代理机构	南京纵横知识产权代理有限公司	代理人	董建林;王寿刚

摘要

本实用新型涉及一种图案化雾面转印膜结构，包括：一基底薄膜层，包括由微粒子构成的抗眩光剂；一遮蔽层，覆盖于基底薄膜层上表面的局部区域；一离型层，设置于基底薄膜层以及遮蔽层的上表面；一第一硬化膜层，设置于离型层的上表面；一饰纹层，设置于第一硬化膜层的上表面；一第二硬化膜层，设置于饰纹层的上表面；以及一黏着膜层，设置于第二硬化膜层的上表面。本实用新型在具有凹凸粗糙上表面的基底薄膜层上方设置遮蔽层，以于基底薄膜层上方形成一光面图案，从而使得间隔离型层邻接于基底薄膜层及遮蔽层的硬化膜层同样形成凹凸粗糙表面，上方并分布有光面图案，而于转印膜应用时达到图案化雾面效果，以满足多样化的产品外观设计需求。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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