光学薄膜高维多目标优化设计方法

发明专利有效专利

申请号：
CN202010719815.0
IPC分类号：G06F30/27;G06F111/06;G06F119/20;G06N3/00;G06N3/12
申请日期：
2020-07-23
申请人：
长春理工大学

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法律信息

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著录项信息

专利名称	光学薄膜高维多目标优化设计方法
申请号	CN202010719815.0	申请日期	2020-07-23
法律状态	暂无	申报国家	中国
公开/公告日	2020-09-29	公开/公告号	CN111723528A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G06F30/27	IPC分类号	G;0;6;F;3;0;/;2;7;;;G;0;6;F;1;1;1;/;0;6;;;G;0;6;F;1;1;9;/;2;0;;;G;0;6;N;3;/;0;0;;;G;0;6;N;3;/;1;2查看分类表>
申请人	长春理工大学	申请人地址	吉林省长春市长春净月高新技术产业开发区净月大街2950号民生大厦5125室变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	长春国科精密光学技术有限公司	当前权利人	长春国科精密光学技术有限公司
发明人	匡尚奇;林景全;宋晓伟
代理机构	南京利丰知识产权代理事务所（特殊普通合伙）	代理人	暂无

摘要

本发明公开了一种光学薄膜高维多目标优化设计方法，其包括应用高维多目标遗传算法求解光学多层膜的多项性能目标的非支配解，分析所述非支配解分布以及所述各性能目标之间的关系，同时对所述非支配解进行优选，从而确定优选的进化方向；以及，应用方向选择高维多目标遗传算法对确定的所述优选的进化方向进行局部精搜，获得高维多目标优化设计的优选膜系设计。本发明的设计方法有助于在一定工艺条件下，获得全面的膜系设计和降低复杂多层膜的制备风险，且具有广泛的适用性和较强的实际应用价值。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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