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用于确定性能参数的指纹的方法和设备

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202110018882.4
  • IPC分类号:G03F7/20;H01L21/027
  • 申请日期:
    2017-06-22
  • 申请人:
    ASML荷兰有限公司
著录项信息
专利名称用于确定性能参数的指纹的方法和设备
申请号CN202110018882.4申请日期2017-06-22
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2021-04-09公开/公告号CN112631086A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/20IPC分类号G;0;3;F;7;/;2;0;;;H;0;1;L;2;1;/;0;2;7查看分类表>
申请人ASML荷兰有限公司申请人地址
荷兰维德霍温 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人ASML荷兰有限公司当前权利人ASML荷兰有限公司
发明人L·M·A·范德洛格特;B·P·B·西哥斯;S·H·C·范格尔佩;C·C·M·卢伊滕;F·斯塔尔斯
代理机构中科专利商标代理有限责任公司代理人王静
摘要
光刻过程是一种将所需图案施加到衬底上(通常在衬底的目标部分上)的工艺。在光刻过程中,需要控制聚焦。公开了一种用于确定与衬底相关的性能参数的指纹的方法,例如在光刻过程期间要使用的聚焦值。确定参考衬底的性能参数的参考指纹。确定参考衬底的参考衬底参数。确定衬底(例如具有产品结构的衬底)的衬底参数。随后,基于参考指纹、参考衬底参数和衬底参数确定性能参数的指纹。然后可以使用指纹来控制光刻过程。

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