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在金属和多晶硅化学机械研磨中减少大图案凹陷的方法

发明专利无效专利

申请号：
CN200610027371.4
IPC分类号：H01L21/302;H01L21/321
申请日期：
2006-06-07
申请人：
中芯国际集成电路制造（上海）有限公司

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	在金属和多晶硅化学机械研磨中减少大图案凹陷的方法
申请号	CN200610027371.4	申请日期	2006-06-07
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日	2007-12-12	公开/公告号	CN101086965
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	H01L21/302 ? IPC结构图谱： H 电学 H9 电学 H01 基本电气元件 H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件（使用半导体器件的测量入G01；一般电阻器入H01C；磁体、电感器、变压器入H01F；一般电容器入H01G；电解型器件入H01G 9/00；电池组、蓄电池入H01M；波导管、谐振器或波导型线路入H01P；线路连接器、汇流器入H01R；受激发射器件入H01S；机电谐振器入H03H；扬声器、送话器、留声机拾音器或类似的声机电传感器入H04R；一般电光源入H05B；印刷电路、混合电路、电设备的外壳或结构零部件、电气元件的组件的制造入H05K；在具有特殊应用的电路中半导体器件的使用见该应用的小类）〔2〕 H01L21/00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备〔2，8〕 H01L21/02 半导体器件或其部件的制造或处理〔2，8〕 H01L21/04 至少具有一个跃变势垒或表面势垒的器件，例如PN结、耗尽层、载体集结层〔2〕 H01L21/18 器件有由周期表Ⅳ族元素或含有/不含有杂质的AⅢBⅤ族化合物构成的半导体，如掺杂材料〔2，6，7〕 H01L21/30 用H01L 21/20至H01L 21/26各组不包含的方法或设备处理半导体材料的（在半导体材料上制作电极的入H01L 21/28）〔2〕 H01L21/302 改变半导体材料的表面物理特性或形状的，例如腐蚀、抛光、切割〔2〕	IPC分类号	H;0;1;L;2;1;/;3;0;2;;;H;0;1;L;2;1;/;3;2;1查看分类表>
申请人	中芯国际集成电路制造（上海）有限公司	申请人地址	变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	中芯国际集成电路制造（上海）有限公司,中芯国际集成电路制造(北京)有限公司	当前权利人	中芯国际集成电路制造（上海）有限公司,中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
发明人	蒋莉;邹陆军;李绍彬;许丹
代理机构	北京市金杜律师事务所	代理人	李勇

摘要

本发明提供一种在金属和多晶硅化学机械研磨中减少大图案凹陷的方法，主要通过以光刻和蚀刻技术结合修饰性化学机械研磨的方法，避免对大图案的金属或者多晶硅进行研磨时出现过度凹陷。这种方法既可以使一个晶片的有源区性能良好，也可以使周边大图案区域的凹陷问题减少，另外这种方法也有利于提升晶片的均匀性。

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