具有甲硅烷基化剂均匀层的硅石

发明专利有效专利

申请号：
CN02144292.4
IPC分类号：C01B33/12;C07F7/18;C09C3/12
申请日期：
2002-10-10
申请人：
瓦克化学有限公司

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著录项信息

专利名称	具有甲硅烷基化剂均匀层的硅石
申请号	CN02144292.4	申请日期	2002-10-10
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2003-04-23	公开/公告号	CN1412112
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C01B33/12 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C0 化学 C01 无机化学 C01B 非金属元素；其化合物（制备元素或二氧化碳以外无机化合物的发酵或用酶工艺入C12P 3/00；用电解法或电泳法生产非金属元素或无机化合物入C25B） C01B33/00 硅；其化合物（C01B 21/00，C01B 23/00优先；过硅酸盐入 C01B 15/14；碳化物入C01B32/956）〔1，3，2006.01〕 C01B33/113 氧化硅；其水合物〔3〕 C01B33/12 硅石；其水合物，如勒皮硅酸〔3〕	IPC分类号	C;0;1;B;3;3;/;1;2;;;C;0;7;F;7;/;1;8;;;C;0;9;C;3;/;1;2查看分类表>
申请人	瓦克化学有限公司	申请人地址	联邦德国慕尼黑变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	瓦克化学有限公司	当前权利人	瓦克化学有限公司
发明人	赫伯特·巴特尔;马里奥·海涅曼;奥古斯特·阿尔腾布赫纳
代理机构	永新专利商标代理有限公司	代理人	过晓东

摘要

一种用以制备甲硅烷基化硅石的方法，其包括：用由A个通式(I)的单元；(R31SiO1/2) (I)；与B个通式(IIa-c)的单元；(R21SiO2/2)，和/或(IIa)；(R1SiO3/2)，和/或(IIb)；(SiO4/2) (IIc)；所组成的有机硅氧烷使硅石甲硅烷基化，该有机硅氧烷的硅原子上可能具有1或2个连接基团-X，且X＝OZ，Z是具有1至4个碳原子的单价烷基、或Z是氢、或X是卤素、或X是乙酰氧基，R1是饱和或单或多不饱和的、单价的、未卤化或卤化的具有1至18个碳原子的烃基，且可相同或不同，该有机硅氧烷可能含有C个≡SiX或＝SiX2基团，且A、B及C的意义是：1≤B≤100或750＜B＜10000，B≥A+C，且，若A+C＝0，则10≤B≤100或750＜B＜10000。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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