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电容元件、图像传感器、电容元件的制造方法以及图像传感器的制造方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201810862104.1
  • IPC分类号:H01L49/02;H01L27/146
  • 申请日期:
    2018-08-01
  • 申请人:
    松下知识产权经营株式会社
著录项信息
专利名称电容元件、图像传感器、电容元件的制造方法以及图像传感器的制造方法
申请号CN201810862104.1申请日期2018-08-01
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2019-03-19公开/公告号CN109494303A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L49/02IPC分类号H;0;1;L;4;9;/;0;2;;;H;0;1;L;2;7;/;1;4;6查看分类表>
申请人松下知识产权经营株式会社申请人地址
日本大阪府 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人松下知识产权经营株式会社当前权利人松下知识产权经营株式会社
发明人德原健富;柴田聪
代理机构永新专利商标代理有限公司代理人陈建全
摘要
本申请的一个方案的电容元件具备:第一电极;第二电极,该第二电极与所述第一电极相对置地配置;以及电介质层,该电介质层位于所述第一电极与所述第二电极之间,并且与所述第一电极和所述第二电极分别接触。所述电介质层含有选自铪的氧化物和锆的氧化物中的至少一种作为主要成分。所述电介质层的膜厚为12nm以上。所述电介质层具有单斜晶系晶体结构。所述电介质层中所包含的氢的浓度为2.5×1021原子/cm3以下。

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