一种长期保持喷孔流道通畅的PDC钻头

实用新型专利有效专利

申请号：
CN202120791741.1
IPC分类号：E21B10/46;E21B10/60;E21B12/06
申请日期：
2021-04-16
申请人：
宜昌神达科技有限公司

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著录项信息

专利名称	一种长期保持喷孔流道通畅的PDC钻头
申请号	CN202120791741.1	申请日期	2021-04-16
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日		公开/公告号
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	E21B10/46 ? IPC结构图谱： E 固定建筑物 E2 土层或岩石的钻进；采矿 E21 土层或岩石的钻进；采矿 E21B 土层或岩石的钻进（采矿、采石入E21C；开凿立井、掘进平巷或隧洞入E21D）；从井中开采油、气、水、可溶解或可熔化物质或矿物泥浆〔5〕 E21B10/00 钻头（专用于井眼造斜入E21B 7/08；带有收集物质的装置的入E21B 27/00）〔3，8〕 E21B10/46 以抗磨部件为特征的，例如，金刚石镶嵌〔3〕	IPC分类号	E;2;1;B;1;0;/;4;6;;;E;2;1;B;1;0;/;6;0;;;E;2;1;B;1;2;/;0;6查看分类表>
申请人	宜昌神达科技有限公司	申请人地址	湖北省宜昌市三峡民营科技园变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	宜昌神达科技有限公司	当前权利人	宜昌神达科技有限公司
发明人	付正兵;李智丽;刘文彬;杜杨;谭金山;傅红兵
代理机构	重庆中之信知识产权代理事务所（普通合伙）	代理人	熊光红

摘要

本实用新型提供了一种长期保持喷孔流道通畅的PDC钻头，包括钻头本体，钻头本体同轴开设主流道，钻头本体底端开设两个分流道，两个分流道均与主流道平行且与主流道的底部连通，两个分流道内同轴转动安装有通过分流道内液体流动带动转动并对分流道内进行搅拌的第一疏通组件和第二疏通组件，第一疏通组件和第二疏通组件为镜像对称结构且第一疏通组件和第二疏通组件传动连接。本实用新型解决了现有技术中存在的依赖高水压才能清除喷孔流道中堵塞物的问题，产生了在较低的水压下依旧能够保持喷孔流道长期通畅的效果。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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