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切片及芯片接合带和半导体芯片的制造方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN200880012251.4
  • IPC分类号:H01L21/301;C09J7/02
  • 申请日期:
    2008-01-16
  • 申请人:
    积水化学工业株式会社
著录项信息
专利名称切片及芯片接合带和半导体芯片的制造方法
申请号CN200880012251.4申请日期2008-01-16
法律状态撤回申报国家中国
公开/公告日2010-03-10公开/公告号CN101669194
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L21/301IPC分类号H;0;1;L;2;1;/;3;0;1;;;C;0;9;J;7;/;0;2查看分类表>
申请人积水化学工业株式会社申请人地址
日本大阪府 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人积水化学工业株式会社当前权利人积水化学工业株式会社
发明人渡部功治;福冈正辉;松田匠太;竹部义之
代理机构北京市柳沈律师事务所代理人张平元
摘要

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供