基板处理装置

发明专利无效专利

申请号：
CN200810093530.X
IPC分类号：H01L21/00;B08B3/02
申请日期：
2008-04-23
申请人：
大日本网目版制造株式会社

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	基板处理装置
申请号	CN200810093530.X	申请日期	2008-04-23
法律状态	放弃专利权	申报国家	暂无
公开/公告日	2008-11-26	公开/公告号	CN101312119
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	H01L21/00 ? IPC结构图谱： H 电学 H9 电学 H01 基本电气元件 H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件（使用半导体器件的测量入G01；一般电阻器入H01C；磁体、电感器、变压器入H01F；一般电容器入H01G；电解型器件入H01G 9/00；电池组、蓄电池入H01M；波导管、谐振器或波导型线路入H01P；线路连接器、汇流器入H01R；受激发射器件入H01S；机电谐振器入H03H；扬声器、送话器、留声机拾音器或类似的声机电传感器入H04R；一般电光源入H05B；印刷电路、混合电路、电设备的外壳或结构零部件、电气元件的组件的制造入H05K；在具有特殊应用的电路中半导体器件的使用见该应用的小类）〔2〕 H01L21/00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备〔2，8〕	IPC分类号	H;0;1;L;2;1;/;0;0;;;B;0;8;B;3;/;0;2查看分类表>
申请人	大日本网目版制造株式会社	申请人地址	日本京都府京都市变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	大日本网目版制造株式会社	当前权利人	大日本网目版制造株式会社
发明人	富藤幸雄;尾崎一人
代理机构	隆天国际知识产权代理有限公司	代理人	高龙鑫;马少东

摘要

本发明提供一种基板处理装置，能够更正确地把握基板的处理状况。基板处理装置具有处理槽(10A～10C)，将基板(S)以倾斜姿势输送的同时，在各处理槽(10A～10C)内分别通过喷淋喷嘴(14)向基板(S)的表面供给冲洗液，同时实施清洗处理。在各处理槽(10A～10C)内部设置有在沿基板(S)的表面流下的冲洗液到达槽内的底部之前接受该清洗液而测定其pH值的第一pH值测定装置(16)，基于各pH值测定装置(16)的测定结果，通过控制器(40)控制各处理槽(10A～10C)中的冲洗液的供给量。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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