有源矩阵显示装置及其制造方法

发明专利无效专利

申请号：
CN200480033928.4
IPC分类号：G02F1/1333;G02F1/1341
申请日期：
2004-11-17
申请人：
皇家飞利浦电子股份有限公司

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著录项信息

专利名称	有源矩阵显示装置及其制造方法
申请号	CN200480033928.4	申请日期	2004-11-17
法律状态	撤回	申报国家	中国
公开/公告日	2006-12-20	公开/公告号	CN1882869
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G02F1/1333 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G02 光学 G02F 用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如转换、选通、调制或解调，上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的；用于上述操作的技术或工艺；变频；非线性光学；光学逻辑元件；光学模拟/数字转换器〔2，4〕 G02F1/00 控制来自独立光源的光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如，转换、选通或调制；非线性光学〔2，4〕 G02F1/01 对强度、相位、偏振或颜色的控制（G02F 1/29、G02F 1/35优先）〔2，7〕 G02F1/13 基于液晶的，例如单位液晶显示单元〔2〕 G02F1/133 构造上的设备；液晶单元的工作；电路装置（用于控制矩阵中液晶元件并且在结构上不与这些元件相连的装置或电路入G09G 3/36）〔3，7〕 G02F1/1333 构造上的设备（G02F 1/135，G02F 1/136优先）〔5〕	IPC分类号	G;0;2;F;1;/;1;3;3;3;;;G;0;2;F;1;/;1;3;4;1查看分类表>
申请人	皇家飞利浦电子股份有限公司	申请人地址	荷兰艾恩德霍芬变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	皇家飞利浦电子股份有限公司	当前权利人	皇家飞利浦电子股份有限公司
发明人	J·P·A·福格尔斯;D·J·布罗尔;H·E·A·惠特马;S·I·克林克;H·德科宁;R·彭特曼
代理机构	中国专利代理（香港）有限公司	代理人	韦欣华;段晓玲

摘要

提供了一种制造具有光学层的有源矩阵显示装置的方法，所述光学层包括电子－光学材料和聚合物前体的混合物。根据行和列导线与像素电极的透光或反光特性之间的差异，加工所述有源板的上层，从而根据行和列的布图或像素电极的布图来加工上层。然后从所述衬底的上方使光学层曝露于激发物下，以使聚合物前体聚合成不连续的聚合物表层，从而将电子－光学材料封闭在聚合材料与有源板之间以形成显示像素。形成显示像素的电子－光学材料的封闭主体被限定成通过上层加工而确定的布图。该方法利用了现有的行和列布图或像素电极布图，以自取向的方式在液晶晶元穴之间形成隔壁。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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