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一种新型的掩模板设计制作结构

实用新型专利无效专利

申请号：
CN02261132.0
IPC分类号：--
申请日期：
2002-10-31
申请人：
上海华虹NEC电子有限公司

基础信息

权利要求

说明书

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	一种新型的掩模板设计制作结构
申请号	CN02261132.0	申请日期	2002-10-31
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日		公开/公告号
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	暂无	IPC分类号	暂无查看分类表>
申请人	上海华虹NEC电子有限公司	申请人地址	上海市浦东新区金桥出口加工区川桥路1188号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	上海华虹NEC电子有限公司	当前权利人	上海华虹NEC电子有限公司
发明人	曹余新
代理机构	上海正旦专利代理有限公司	代理人	陶金龙;陆飞

摘要

本实用新型是一种集成电路生产中掩模板设计制作结构。它是在同一枚掩模板内制作有多个光刻工程的掩模图形，光刻工程的数量可为2－25个，各掩模图形的四周配置有一定宽度的遮光带。本实用新型在集成电路生产中，可大大缩短开发周期，降低开发费。

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