高岭石/1,2-丙二醇插层复合材料的制备方法

发明专利无效专利

申请号：
CN200810046044.2
IPC分类号：C01B33/44
申请日期：
2008-09-12
申请人：
成都理工大学

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专利名称	高岭石/1,2-丙二醇插层复合材料的制备方法
申请号	CN200810046044.2	申请日期	2008-09-12
法律状态	撤回	申报国家	中国
公开/公告日	2009-04-01	公开/公告号	CN101397140
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C01B33/44 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C0 化学 C01 无机化学 C01B 非金属元素；其化合物（制备元素或二氧化碳以外无机化合物的发酵或用酶工艺入C12P 3/00；用电解法或电泳法生产非金属元素或无机化合物入C25B） C01B33/00 硅；其化合物（C01B 21/00，C01B 23/00优先；过硅酸盐入 C01B 15/14；碳化物入C01B32/956）〔1，3，2006.01〕 C01B33/20 硅酸盐（过硅酸盐入C01B 15/14） C01B33/36 具有碱交换特性而不具有分子筛特性〔6〕 C01B33/38 层状碱交换硅酸盐，如黏土、云母类或水羟硅钠石或麦羟硅钠石类的碱金属硅酸盐〔6〕 C01B33/44 通过与有机化合物如铵、磷或硫化合物离子交换或通过有机化合物，如有机土材料嵌入，由层状碱-交换硅酸盐得到的产物〔6〕	IPC分类号	C;0;1;B;3;3;/;4;4查看分类表>
申请人	成都理工大学	申请人地址	四川省成都市成华区二仙桥东三路1号成都理工大学变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	成都理工大学	当前权利人	成都理工大学
发明人	林金辉;龙剑平;周世一;郭善
代理机构	暂无	代理人	暂无

摘要

高岭石/1，2－丙二醇插层复合材料的制备方法。本发明涉及以二甲亚砜、1，2－丙二醇为插层剂，采用液相两步插层法，以高岭石/二甲亚砜插层复合物为前驱体，通过1，2－丙二醇对高岭石/二甲亚砜插层复合物中二甲亚砜分子的取代，制备高岭石/1，2－丙二醇插层复合材料，高岭石d(001)层间距扩大60％～65％，插层率达到85％～99％；1，2－丙二醇分子在高岭石层间以平行于高岭石层片方式呈单层排列，其氧原子与高岭石的内表面羟基形成氢键，高岭石/二甲亚砜插层复合材料结构稳定。本发明属于复合材料领域，制备的高岭石/1，2－丙二醇插层复合材料可应用于催化剂、功能载体、吸附剂、先进陶瓷材料等领域。

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