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用于半导体热处理设备的温度控制方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201310314476.8
  • IPC分类号:G05D23/22
  • 申请日期:
    2013-07-24
  • 申请人:
    北京七星华创电子股份有限公司
著录项信息
专利名称用于半导体热处理设备的温度控制方法
申请号CN201310314476.8申请日期2013-07-24
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2013-11-13公开/公告号CN103389752A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G05D23/22IPC分类号G;0;5;D;2;3;/;2;2查看分类表>
申请人北京七星华创电子股份有限公司申请人地址
北京市朝阳区酒仙桥东路1号M2楼2层 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人北京七星华创电子股份有限公司当前权利人北京七星华创电子股份有限公司
发明人曹志刚;杨海燕;郑建宇;杨浩;李凡
代理机构北京路浩知识产权代理有限公司代理人王莹
摘要
本发明提供一种用于半导体热处理设备的温度控制方法,包括:获取所述半导体热处理设备的控制热偶所测量的温度值;根据所述控制热偶所测量的温度值与所述半导体热处理设备的温度设定值,计算所需加热的功率值;根据所述功率值,对所述半导体热处理设备进行加热。根据本发明,不再采用温度仪表的方式来控制炉体的温度,而是将通过温度采集模块采集到的温度,直接传给计算机,经计算机的内嵌的计算方法,根据炉体实际温度与设定温度间的偏差,计算出此时此刻炉体所需的功率值,将计算所得的功率值传给功率输出装置,实时地对炉体进行控制,从而达到对炉体温度的控制。

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