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一种软X射线滤光片及其制备方法和用途

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202110972075.6
  • IPC分类号:G21K1/10;C23C14/16;C23C14/30
  • 申请日期:
    2021-08-24
  • 申请人:
    上海科技大学
著录项信息
专利名称一种软X射线滤光片及其制备方法和用途
申请号CN202110972075.6申请日期2021-08-24
法律状态公开申报国家中国
公开/公告日2021-11-23公开/公告号CN113689968A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G21K1/10IPC分类号G;2;1;K;1;/;1;0;;;C;2;3;C;1;4;/;1;6;;;C;2;3;C;1;4;/;3;0查看分类表>
申请人上海科技大学申请人地址
上海市浦东新区华夏中路393号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人上海科技大学当前权利人上海科技大学
发明人孟建伟;翁祖谦
代理机构上海光华专利事务所(普通合伙)代理人严晨;许亦琳
摘要
本发明涉及X射线探测应用领域,特别是涉及一种软X射线滤光片及其制备方法和用途。本发明所提供的软X射线滤光片,包括石墨烯支撑层,所述石墨烯支撑层表面涂覆有铝膜。本申请所提供的软X射线滤光片采用了石墨烯作为铝膜的支撑结构,使得能量在277eV附近的光子,其透过率可达到90%以上,克服了现有滤光片对该能量范围透过率底的问题,而对于能量范围在400‑1000eV的光子,其最低透过率更是达到95%以上,尤其是能量大于1000eV的光子,几乎完全透过。

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