用于电解池的金属池元件材料的涂层

发明专利无效专利

申请号：
CN201180063955.6
IPC分类号：C25B9/04
申请日期：
2011-11-29
申请人：
蒂森克虏伯伍德公司;拜耳知识产权有限责任公司

基础信息

权利要求

说明书

PDF全文

法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	用于电解池的金属池元件材料的涂层
申请号	CN201180063955.6	申请日期	2011-11-29
法律状态	放弃专利权	申报国家	中国
公开/公告日	2014-01-01	公开/公告号	CN103492616A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C25B9/04 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C2 冶金 C25 电解或电泳工艺；其所用设备〔4〕 C25B 生产化合物或非金属的电解工艺或电泳工艺；其所用的设备（阳极或阴极保护入 C23F13/00；单晶生长入C30B）〔2〕 C25B9/00 电解槽或其组合件；电解槽构件；电解槽构件的组合件，例如电极－膜组合件〔2，7〕 C25B9/04 供电装置；电极连接件；槽间电气连接件〔2〕	IPC分类号	C;2;5;B;9;/;0;4查看分类表>
申请人	蒂森克虏伯伍德公司;拜耳知识产权有限责任公司	申请人地址	德国多特蒙德变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	拜耳知识产权有限责任公司,乌德诺拉股份公司,蒂森克虏伯工业解决方案股份公司	当前权利人	拜耳知识产权有限责任公司,乌德诺拉股份公司,蒂森克虏伯工业解决方案股份公司
发明人	P·沃尔特林;兰德夫·基弗;瑞纳·韦伯;安德烈亚斯·布兰
代理机构	北京安信方达知识产权代理有限公司	代理人	武晶晶;杨淑媛

摘要

本发明涉及包含金属的池元件组件的电解池的一种阴极半壳体，包括o焊接到该阴极半壳体(1)的后壁的一个金属支撑结构(2)，和平面平行式安排于其上的至少一个金属弹性元件(4)，o一个氧气消耗阴极，安排在该至少一个金属弹性元件上，其中所述氧气消耗阴极包括一个穿孔的金属载体(5)和一个机械地压力配合在其上的由PTFE和氧化银制成的催化剂条带(6)，其中所述氧化银在电解工作过程中还原成银，并且此时在该氧气消耗阴极的组件和所述至少一个弹性元件之间生成均一的连接，所述连接以高导电性为特征，其中至少一个金属组件设置有包括至少两个层的导电涂层，其中o一个第一层，直接施加到池元件材料上，是选自包含Au、B掺杂的镍、Ni的硫化物和它们的混合物的组中，这个第一层的层厚度为0.005至0.2μm，以及o一个第二层，施加到第一层上且由银制成，这个第二层的层厚度为0.1至30μm。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有被任何外部专利所引用！

我浏览过的专利

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供