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图形化的钝化接触太阳能电池及其制造方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202011184322.8
  • IPC分类号:H01L31/0224;H01L31/0216;H01L31/068;H01L31/18
  • 申请日期:
    2020-10-29
  • 申请人:
    天合光能股份有限公司;天合光能(常州)科技有限公司
著录项信息
专利名称图形化的钝化接触太阳能电池及其制造方法
申请号CN202011184322.8申请日期2020-10-29
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2021-01-01公开/公告号CN112164728A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L31/0224IPC分类号H;0;1;L;3;1;/;0;2;2;4;;;H;0;1;L;3;1;/;0;2;1;6;;;H;0;1;L;3;1;/;0;6;8;;;H;0;1;L;3;1;/;1;8查看分类表>
申请人天合光能股份有限公司;天合光能(常州)科技有限公司申请人地址
江苏省常州市新北区天合光伏产业园天合路2号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人天合光能股份有限公司,天合光能(常州)科技有限公司当前权利人天合光能股份有限公司,天合光能(常州)科技有限公司
发明人胡匀匀;徐冠超;冯志强;杨阳;安亦奇
代理机构浙江永鼎律师事务所代理人暂无
摘要
本发明属于晶体硅太阳能电池技术领域,涉及一种图形化的钝化接触太阳能电池及其制造方法,包括衬底,衬底正面和背面分别设有正面钝化层和背面钝化层,衬底正面设有正面金属栅线,衬底背面设有背面金属栅线,衬底与背面金属栅线之间依次设有超薄隧穿氧化层和掺杂多晶硅层,掺杂多晶硅层连接背面金属栅线,超薄隧穿氧化层和掺杂多晶硅层的形状相同,每相邻的两条背面金属栅线之间还设有空白区,空白区的边缘形状与超薄隧穿氧化层或掺杂多晶硅层的边缘形状吻合。本发明采用一种背面图形化的钝化接触结构,能降低金属接触区域的载流子复合,同时具有良好的接触性能。

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