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一种用于半导体温控系统的纯水发生系统

发明专利有效专利

申请号：
CN202110956058.3
IPC分类号：C02F1/42C02F103/04
申请日期：
2021-08-19
申请人：
合肥亦威科技有限公司

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	一种用于半导体温控系统的纯水发生系统
申请号	CN202110956058.3	申请日期	2021-08-19
法律状态	公开	申报国家	中国
公开/公告日	2021-11-19	公开/公告号	CN113666455A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C02F1/42 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C0 化学 C02 水、废水、污水或污泥的处理 C02F 水、废水、污水或污泥的处理（通过在物质中产生化学变化使有害的化学物质无害或降低危害的方法入A62D 3/00；分离、沉淀箱或过滤设备入B01D；有关处理水、废水或污水生产装置的水运容器的特殊设备，例如用于制备淡水入B63J；为防止水的腐蚀用的添加物质入C23F；放射性废液的处理入G21F 9/04）〔3〕 C02F1/00 水、废水或污水的处理（C02F 3/00至C02F 9/00优先）〔3〕 C02F1/42 离子交换法〔3〕	IPC分类号	C02F1/42;C02F103/04查看分类表>
申请人	合肥亦威科技有限公司	申请人地址	安徽省合肥市高新区创新大道106号合肥明珠产业园3＃厂房B*** 变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	合肥亦威科技有限公司	当前权利人	合肥亦威科技有限公司
发明人	冯雄涛;金鑫
代理机构	合肥汇融专利代理有限公司	代理人	赵宗海

摘要

本发明涉及半导体晶圆生产技术领域，尤其涉及一种用于半导体温控系统的纯水发生系统，包括：循环液系统，所述循环液系统包括由水箱装置、水泵、第一温度传感器、负载装置、第一精密过滤装置和第一板式换热器组成的放热回路并依次相连所形成的第一回路；在水泵、第一温度传感器的出口处和第一板式换热器的入口处设置有第二回路，第二回路用于温控系统的纯水发生系统。本发明解决了目前技术中用于晶圆生产的温控设备中纯水发生装置的工艺温度的问题，给离子交换树脂提供一个符合工艺要求的恒定温度，提高了离子交换树脂对水中离子的吸附速度，保证了离子交换树脂的物理以及化学稳定性，提高了树脂的交换容量和使用寿命。

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