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一种用于PCM聚焦系统磁场分布测量的装置

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201010291996.8
  • IPC分类号:G01R33/02
  • 申请日期:
    2010-09-26
  • 申请人:
    中国科学院电子学研究所
著录项信息
专利名称一种用于PCM聚焦系统磁场分布测量的装置
申请号CN201010291996.8申请日期2010-09-26
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2012-04-11公开/公告号CN102411129A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G01R33/02IPC分类号G;0;1;R;3;3;/;0;2查看分类表>
申请人中国科学院电子学研究所申请人地址
北京市海淀区北四环西路19号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人中国科学院电子学研究所当前权利人中国科学院电子学研究所
发明人赵鼎;陆熙;阮存军;王勇
代理机构中科专利商标代理有限责任公司代理人周国城
摘要
本发明公开了一种用于PCM聚焦系统磁场分布测量的装置,涉及微波器件技术,包括四个主要部分:调节旋钮组件、磁钢固定板组件、矩形支架以及装置托架。该装置可以在一定范围内精确调节PCM聚焦系统中两组相对聚焦平面之间的距离,通过可拆卸机构可广泛适应不同的聚焦方案,并可为磁测量探针提供确定的运动路径。本发明装置针对带状电子注器件的研制和测试,具有调节精度高、通用性强、操作简便的优点,能够满足实际工程中对PCM聚焦系统进行精密调节和测量以及优选聚焦方案的要求。

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