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一种光栅可切换位移测量装置、测量方法及光刻系统

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201911206979.7
  • IPC分类号:G03F7/20;G01B11/02
  • 申请日期:
    2019-11-29
  • 申请人:
    上海微电子装备(集团)股份有限公司
著录项信息
专利名称一种光栅可切换位移测量装置、测量方法及光刻系统
申请号CN201911206979.7申请日期2019-11-29
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2021-06-01公开/公告号CN112882347A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/20IPC分类号G;0;3;F;7;/;2;0;;;G;0;1;B;1;1;/;0;2查看分类表>
申请人上海微电子装备(集团)股份有限公司申请人地址
上海市浦东新区自由贸易试验区张东路1525号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人上海微电子装备(集团)股份有限公司当前权利人上海微电子装备(集团)股份有限公司
发明人吴萍
代理机构北京品源专利代理有限公司代理人孟金喆
摘要
本发明实施例公开了一种光栅可切换位移测量装置、测量方法及光刻系统。其中测量装置包括光源模块,用于产生第一光束和第二光束;衍射引导单元,用于引导第一光束和/或第二光束经由一维光栅衍射后的衍射光回射至一维光栅,和/或引导第一光束和/或第二光束衍射后的反射光回射至一维光栅,并输出光束;探测模块,用于接收输出光束;信号处理模块,用于计算一维光栅沿第二方向的位移和沿第三方向的位移;或者计算一维光栅沿第一方向的位移和第三方向的位移。本发明实施例的技术方案,可以实现利用一维光栅进行两个自由度的高精度、高稳定性位移测量,且可以匹配一维光栅的栅线方向切换的场景下的连续测量,具有结构简单、成本低等优点。

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