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光学薄膜X射线反射率、荧光强度及光谱数据处理方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201310595101.3
  • IPC分类号:G01N23/20;G01N23/223
  • 申请日期:
    2013-11-21
  • 申请人:
    同济大学
著录项信息
专利名称光学薄膜X射线反射率、荧光强度及光谱数据处理方法
申请号CN201310595101.3申请日期2013-11-21
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2014-03-05公开/公告号CN103616392A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G01N23/20IPC分类号G;0;1;N;2;3;/;2;0;;;G;0;1;N;2;3;/;2;2;3查看分类表>
申请人同济大学申请人地址
上海市杨浦区四平路1239号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人同济大学当前权利人同济大学
发明人李文斌;杨晓月;王占山
代理机构上海科盛知识产权代理有限公司代理人赵志远
摘要
本发明涉及一种光学薄膜X射线反射率、荧光强度及光谱数据处理方法,包括以下步骤:1)数据采集模块采集光学薄膜参数,并将其传输到数据调整模块;2)数据调整模块对接收到的数据进行调整后,传输给数据处理模块;3)数据处理模块根据光学薄膜参数数据计算反射率、荧光强度及荧光谱,并将计算结果发送给数据显示模块;4)数据显示模块将计算结果进行显示。与现有技术相比,本发明具有实现成本低、可靠性高、操作简单、直观性好、仿真性高等优点。

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