一种团簇式镀膜设备

实用新型专利有效专利

申请号：
CN201921201585.8
IPC分类号：C23C14/35;C23C14/56;C23C16/54
申请日期：
2019-07-29
申请人：
深圳市溢鑫科技研发有限公司

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专利名称	一种团簇式镀膜设备
申请号	CN201921201585.8	申请日期	2019-07-29
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日		公开/公告号
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C23C14/35 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C2 冶金 C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕 C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆（挤压法制造包覆金属的产品入B21C23/22；通过将预先存在的薄层连接到制品上的方法用金属进行镀覆处理的见各有关位置，例如B21D39/00，B23K；玻璃的金属化入C03C；砂浆、混凝土、人造石、陶瓷或天然石的金属化入C04B41/00；金属的搪瓷或向金属上镀覆玻璃体层入c23D；用电解法或电泳法处理金属表面或镀覆金属入C25D；单晶膜生长入C30B；纺织品的金属化入D06M11/83；用局部金属化法装饰纺织品入D06Q1/04）〔4〕 C23C14/00 通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆〔4，2006.01〕 C23C14/22 以镀覆工艺为特征的〔4〕 C23C14/34 溅射〔4〕 C23C14/35 利用磁场的，例如磁控溅射〔5〕	IPC分类号	C;2;3;C;1;4;/;3;5;;;C;2;3;C;1;4;/;5;6;;;C;2;3;C;1;6;/;5;4查看分类表>
申请人	深圳市溢鑫科技研发有限公司	申请人地址	广东省深圳市南山区西丽街道创科路和茶光路交汇处波顿科技园B座万科云创5楼变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	深圳市溢鑫科技研发有限公司	当前权利人	深圳市溢鑫科技研发有限公司
发明人	陈旺寿;赵鑫;恩瑞克;李金堂;钟西舟
代理机构	深圳众赢通宝知识产权代理事务所（普通合伙）	代理人	翁治林

摘要

本实用新型公开了一种团簇式镀膜设备，包括上下料室、多个真空镀膜装置以及真空传输室；真空传输室包括传输腔体、与传输腔体连接的第一真空系统以及固定设置在传输腔体内的机械手；上下料室、多个真空镀膜装置分别与传输腔体连接。本实用新型提供的团簇式镀膜设备，通过机械手实现产品在上下料室及多个真空镀膜装置间的传输，保证产品按照工艺需求依次完成各个膜层的沉积，并将完成后的产品送回上下料室，在真空内完成产品的不同镀膜工艺流程传送，避免产品在镀膜过程中由于不同工序的产品转移暴露大气引起的质量问题，采用真空机械手，在高精度的移动范围内，实现产品的精确传送和对位。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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该专利没有被任何外部专利所引用！

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