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半导体装置及其制造方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN201610927382.1
  • IPC分类号:H01L21/8234;H01L27/088
  • 申请日期:
    2016-10-31
  • 申请人:
    中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
著录项信息
专利名称半导体装置及其制造方法
申请号CN201610927382.1申请日期2016-10-31
法律状态驳回申报国家中国
公开/公告日2018-05-08公开/公告号CN108010880A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L21/8234
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IPC结构图谱:
IPC分类号H;0;1;L;2;1;/;8;2;3;4;;;H;0;1;L;2;7;/;0;8;8查看分类表>
申请人中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司申请人地址
上海市浦东新区张江路18号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人中芯国际集成电路制造(上海)有限公司,中芯国际集成电路制造(北京)有限公司当前权利人中芯国际集成电路制造(上海)有限公司,中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
发明人周飞
代理机构中国国际贸易促进委员会专利商标事务所代理人曲瑞
摘要
本发明公开了一种半导体装置及其制造方法,涉及半导体技术领域。该半导体装置包括:半导体衬底;突出于半导体衬底的一个或多个鳍片,其中每个鳍片的侧边形成有沟槽;部分地填充沟槽的第一绝缘物层,其中鳍片突出于第一绝缘物层;覆盖在鳍片上的第二绝缘物层;用于鳍片的多个伪栅极结构,该多个伪栅极结构至少包括在第一绝缘物层上的第一伪栅极结构和在第二绝缘物层上的第二伪栅极结构,第一伪栅极结构与第二伪栅极结构间隔开,第一伪栅极结构邻接鳍片的侧边缘上的第二绝缘物层的部分;在多个伪栅极结构的侧面上的间隔物;在鳍片上位于多个伪栅极结构之间的源极或漏极。本发明可以提高不同鳍片有源区之间的绝缘性。

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