磁记录膜用溅射靶

发明专利有效专利

申请号：
CN201380011254.7
IPC分类号：--
申请日期：
2013-05-22
申请人：
吉坤日矿日石金属株式会社

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法律信息

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著录项信息

专利名称	磁记录膜用溅射靶
申请号	CN201380011254.7	申请日期	2013-05-22
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2014-11-12	公开/公告号	CN104145306A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	暂无	IPC分类号	暂无查看分类表>
申请人	吉坤日矿日石金属株式会社	申请人地址	日本东京变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	吉坤日矿日石金属株式会社	当前权利人	吉坤日矿日石金属株式会社
发明人	荻野真一
代理机构	中原信达知识产权代理有限责任公司	代理人	王海川;穆德骏

摘要

一种磁记录膜用溅射靶，其含有C，其特征在于，拉曼散射光谱测定中的G谱带与D谱带的峰强度比(IG/ID)为5.0以上。本发明的课题在于提供能够制作粒状结构的磁性薄膜而不使用昂贵的共溅射装置的分散有C颗粒的磁记录膜用溅射靶、特别是Fe‑Pt基溅射靶，虽然具有碳为难烧结的材料、而且碳之间容易形成聚集体的问题，还存在溅射中碳块容易脱离而在溅射后的膜上产生大量粉粒的问题，但是本发明的课题在于提供能够解决上述问题的高密度溅射靶。

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