化学计量介电薄膜的高速反应溅射

发明专利有效专利

申请号：
CN201480009573.9
IPC分类号：C23C14/00;C23C14/08;C23C14/54
申请日期：
2014-01-22
申请人：
皮尔森西波西米亚大学;通快许廷格有限公司

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专利名称	化学计量介电薄膜的高速反应溅射
申请号	CN201480009573.9	申请日期	2014-01-22
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2016-01-20	公开/公告号	CN105264107A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C23C14/00 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C2 冶金 C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕 C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆（挤压法制造包覆金属的产品入B21C23/22；通过将预先存在的薄层连接到制品上的方法用金属进行镀覆处理的见各有关位置，例如B21D39/00，B23K；玻璃的金属化入C03C；砂浆、混凝土、人造石、陶瓷或天然石的金属化入C04B41/00；金属的搪瓷或向金属上镀覆玻璃体层入c23D；用电解法或电泳法处理金属表面或镀覆金属入C25D；单晶膜生长入C30B；纺织品的金属化入D06M11/83；用局部金属化法装饰纺织品入D06Q1/04）〔4〕 C23C14/00 通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆〔4，2006.01〕	IPC分类号	C;2;3;C;1;4;/;0;0;;;C;2;3;C;1;4;/;0;8;;;C;2;3;C;1;4;/;5;4查看分类表>
申请人	皮尔森西波西米亚大学;通快许廷格有限公司	申请人地址	捷克共和国皮尔森变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	皮尔森西波西米亚大学,通快许廷格有限公司	当前权利人	皮尔森西波西米亚大学,通快许廷格有限公司
发明人	R·布吉;J·弗尔切克;J·雷策克;J·拉扎尔
代理机构	永新专利商标代理有限公司	代理人	过晓东

摘要

本发明提供一种用于监测并控制反应溅射沉积的方法和装置。该方法和装置尤其可用于使用对金属靶进行溅射的大功率磁控管的化学计量介电化合物(例如，金属氧化物、金属氮化物、金属氮氧化物等)在各种基底上的高速沉积，所述溅射包括使用较短的靶(阴极)电压脉冲(通常40μs至200μs)且具有高达数kWcm‑2的靶功率密度的大功率脉冲磁控溅射。对于给定的标称靶功率水平、靶材料和源气体而言，在由电源所保持的恒定靶电压下对反应性气体进入真空室的脉冲流速进行控制，以促进化学计量介电薄膜在“金属模式”与“覆盖(中毒)模式”之间的过渡区中的溅射沉积。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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