表面粗糙度达到零点一纳米级的超光滑抛光工艺

发明专利无效专利

申请号：
CN201410125710.7
IPC分类号：B24B29/02
申请日期：
2014-04-01
申请人：
壹埃光学（苏州）有限公司;曹雪官

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法律信息

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著录项信息

专利名称	表面粗糙度达到零点一纳米级的超光滑抛光工艺
申请号	CN201410125710.7	申请日期	2014-04-01
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日	2014-07-23	公开/公告号	CN103934741A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	B24B29/02 ? IPC结构图谱： B 作业；运输 B2 成型 B24 磨削；抛光 B24B 用于磨削或抛光的机床、装置或工艺（用电蚀入B23H；磨料或有关喷射入B24C；电解浸蚀或电解抛光入C25F 3/00）；磨具磨损表面的修理或调节；磨削，抛光剂或研磨剂的进给 B24B29/00 有或没有使用固体或液体抛光剂并利用柔软材料或挠性材料制作的工具进行工件表面抛光的机床或装置（使用砂带磨削或抛光入B24B 21/00）〔4〕 B24B29/02 适用于特殊工件的〔4〕	IPC分类号	B;2;4;B;2;9;/;0;2查看分类表>
申请人	壹埃光学（苏州）有限公司;曹雪官	申请人地址	江苏省苏州市太仓市科教新城健雄路20号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	壹埃光学（苏州）有限公司,曹雪官	当前权利人	壹埃光学（苏州）有限公司,曹雪官
发明人	曹雪官
代理机构	苏州市方略专利代理事务所（普通合伙）	代理人	马广旭

摘要

本发明公开了一种表面粗糙度达到零点一纳米级的超光滑抛光工艺，该工艺包含四个抛光阶段，达到不同的抛光效果以机械磨削为主要作用的，以去除研磨破坏层为主要目的的粗抛阶段、以物理作用为主要特征的，以实现一定表面平面度为主要目的的精抛阶段、以化学作用为主要特征的，以去除亚表面损伤层为目的的初超抛阶段、以流变作用为主要特征的，以实现低表面粗糙度（RMS)抛光为目的的超抛阶段，从而实现光学材料表面原子重新排列在一个水平面上，达到超精密光学元件表面粗糙度RMS≤0.1nm的抛光要求。本发明提出的表面粗糙度RMS≤0.1nm的超光滑抛光工艺，产品质量稳定性好，可实现批量生产。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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