加载中...
首页专利查询专利详情

*来源于国家知识产权局数据,仅供参考,实际以国家知识产权局展示为准

一种具有阶梯分离栅L型槽横向器件

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201910585439.8
  • IPC分类号:H01L29/78;H01L29/423
  • 申请日期:
    2019-07-01
  • 申请人:
    长沙理工大学
著录项信息
专利名称一种具有阶梯分离栅L型槽横向器件
申请号CN201910585439.8申请日期2019-07-01
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2019-11-05公开/公告号CN110416306A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L29/78
?
IPC结构图谱:
IPC分类号H;0;1;L;2;9;/;7;8;;;H;0;1;L;2;9;/;4;2;3查看分类表>
申请人长沙理工大学申请人地址
湖南省长沙市天心区万家丽南路2段960号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人长沙理工大学当前权利人长沙理工大学
发明人吴丽娟;丁启林;黄也;朱琳;陈家祺
代理机构暂无代理人暂无
摘要
本发明属于功率半导体技术领域,具体涉及一种具有阶梯分离栅L型槽功率器件。本发明主要特征在于:在漂移区中引入阶梯栅构成金属‑半导体‑氧化物(MIS)结构。在关态时,栅极浮空场板自适应漂移区中的施主离子,起到辅助耗尽漂移区作用,栅场板引入额外的电场尖峰,调节器件纵向电场,提高器件的整体耐压。L型槽在保持高耐压的同时极大缩短了漂移区的长度,降低了器件的比导通电阻。

我浏览过的专利

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供