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*来源于国家知识产权局数据,仅供参考,实际以国家知识产权局展示为准

一种曝光装置

实用新型专利有效专利
  • 申请号:
    CN201821385243.1
  • IPC分类号:G03F7/20
  • 申请日期:
    2018-08-27
  • 申请人:
    上海微电子装备(集团)股份有限公司
著录项信息
专利名称一种曝光装置
申请号CN201821385243.1申请日期2018-08-27
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日公开/公告号
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/20IPC分类号G;0;3;F;7;/;2;0查看分类表>
申请人上海微电子装备(集团)股份有限公司申请人地址
上海市浦东新区自由贸易试验区张东路1525号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人上海微电子装备(集团)股份有限公司当前权利人上海微电子装备(集团)股份有限公司
发明人陈勇辉;张俊
代理机构北京品源专利代理有限公司代理人孟金喆
摘要
本实用新型公开了一种曝光装置。该曝光装置包括:测量单元、曝光单元和中转传输单元;测量单元用于放置基底,并测量基底的位置;测量单元包括可拆卸的载盘子单元,载盘子单元用于吸附基底,且载盘子单元与被吸附的基底同步传输;中转传输单元用于固定和传输基底、载盘子单元、基底以及吸附基底的载盘子单元;中转传输单元用于在曝光单元闲置时将测量后的基底以及吸附基底的载盘子单元同步传输至曝光单元,以及用于在测量单元闲置时将未吸附基底的载盘子单元传输至测量单元;曝光单元用于对测量后的基底进行曝光。该技术方案可协调测量时间和曝光时间,提高双台曝光光刻技术的产能。

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