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一种新型耐高温SiCMOSFET半桥多层封装结构

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202011638747.1
  • IPC分类号:H01L25/07;H01L23/31;H01L23/48;H01L23/49
  • 申请日期:
    2020-12-31
  • 申请人:
    西安交通大学
著录项信息
专利名称一种新型耐高温SiCMOSFET半桥多层封装结构
申请号CN202011638747.1申请日期2020-12-31
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2021-05-28公开/公告号CN112864140A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L25/07IPC分类号H;0;1;L;2;5;/;0;7;;;H;0;1;L;2;3;/;3;1;;;H;0;1;L;2;3;/;4;8;;;H;0;1;L;2;3;/;4;9查看分类表>
申请人西安交通大学申请人地址
陕西省西安市咸宁西路28号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人西安交通大学当前权利人西安交通大学
发明人王来利;朱梦宇;杨成子;杨奉涛;李华清
代理机构西安通大专利代理有限责任公司代理人范巍
摘要
本发明公开了一种新型耐高温SiC MOSFET半桥多层封装结构,包括封装层及引片结构,其中,封装层内设置有第一镀金金属化芯区及第二镀金金属化芯区,封装层的表面开设有自上到下分布的通孔结构,引片结构插入于通孔结构内后与封装层之间密封,第一镀金金属化芯区上设置有上桥臂半导体芯片,第二镀金金属化芯区上设置有下桥臂半导体芯片,其中,引片结构与上桥臂半导体芯片及下桥臂半导体芯片相连,该结构具有低成本、高可靠性、低寄生参数及耐高温的特点。

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