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光刻透镜成像系统中基于液晶的偏振光源装置

发明专利有效专利

申请号：
CN200710094256.3
IPC分类号：G03F7/20;G02F1/133
申请日期：
2007-11-22
申请人：
上海华虹NEC电子有限公司

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	光刻透镜成像系统中基于液晶的偏振光源装置
申请号	CN200710094256.3	申请日期	2007-11-22
法律状态	暂无	申报国家	中国
公开/公告日	2009-05-27	公开/公告号	CN101441417
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G03F7/20 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕 G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G） G03F7/00 图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备（用于特殊工艺的光致抗蚀剂结构见相关的位置，例如，B44C，H01L，例如，H01L 21/00，H05K）〔3，5〕 G03F7/20 曝光及其设备（复制用照相印制设备入G03B 27/00）〔4〕	IPC分类号	G;0;3;F;7;/;2;0;;;G;0;2;F;1;/;1;3;3查看分类表>
申请人	上海华虹NEC电子有限公司	申请人地址	变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	上海华虹宏力半导体制造有限公司	当前权利人	上海华虹宏力半导体制造有限公司
发明人	陈福成
代理机构	上海浦一知识产权代理有限公司	代理人	周赤

摘要

本发明公开了一种光刻透镜成像系统中基于液晶的偏振光源装置，通过液晶来控制光刻成像系统光路中偏振光的偏振方向，避免了需在传统光刻透镜成像系统中的光路中机械地插入偏振片，从而提高了对偏振方向细微变化的分辨度；而且，本发明所述偏振光源装置可简单有效地控制偏振光方向，且便于切换相互垂直的偏振光和非偏振光。

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