一种可用于制备具有成分梯度的薄膜材料的梯度溅射装置

实用新型专利无效专利

申请号：
CN200720008823.4
IPC分类号：C23C14/34;C23C14/54
申请日期：
2007-11-22
申请人：
福建师范大学

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著录项信息

专利名称	一种可用于制备具有成分梯度的薄膜材料的梯度溅射装置
申请号	CN200720008823.4	申请日期	2007-11-22
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日		公开/公告号
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C23C14/34 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C2 冶金 C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕 C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆（挤压法制造包覆金属的产品入B21C23/22；通过将预先存在的薄层连接到制品上的方法用金属进行镀覆处理的见各有关位置，例如B21D39/00，B23K；玻璃的金属化入C03C；砂浆、混凝土、人造石、陶瓷或天然石的金属化入C04B41/00；金属的搪瓷或向金属上镀覆玻璃体层入c23D；用电解法或电泳法处理金属表面或镀覆金属入C25D；单晶膜生长入C30B；纺织品的金属化入D06M11/83；用局部金属化法装饰纺织品入D06Q1/04）〔4〕 C23C14/00 通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆〔4，2006.01〕 C23C14/22 以镀覆工艺为特征的〔4〕 C23C14/34 溅射〔4〕	IPC分类号	C;2;3;C;1;4;/;3;4;;;C;2;3;C;1;4;/;5;4查看分类表>
申请人	福建师范大学	申请人地址	福建省福州市仓山区岭后路8号福建师范大学科研处变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	福建师范大学	当前权利人	福建师范大学
发明人	李山东;刘美梅;王大伟;李培友;程唤龄
代理机构	福州元创专利代理有限公司	代理人	蔡学俊

摘要

本实用新型专利涉及一种用于制备具有成分梯度薄膜材料的溅射装置。装置由真空、电子控制、靶座、溅镀基板和冷却水等系统构成。靶座和溅镀基板处于一个真空腔体中，电子控制系统通过信号线和电源导线分别与靶座系统、溅镀基板系统连接。电子控制系统用于控制基板转速、溅射功率、气体流量、溅射时间、基板温度。靶座系统由主材料靶座、掺杂物靶座、固定板组成。圆形旋转溅镀样品盘转动时，正好使基板位于主材料靶的正上方，转至掺杂物靶时，基板与掺杂物靶呈偏离状对应。主材料靶正对，掺杂物靶偏心的设计，使被溅镀的样品来自主材料靶的成分是均匀的，而圆形旋转溅镀样品盘的径向产生的掺杂物靶的成分呈梯度分布，从而实现掺杂物成分的梯度分布。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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