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具有多方位的绝缘层上覆硅芯片

实用新型专利无效专利
  • 申请号:
    CN200420047859.X
  • IPC分类号:--
  • 申请日期:
    2004-04-01
  • 申请人:
    台湾积体电路制造股份有限公司
著录项信息
专利名称具有多方位的绝缘层上覆硅芯片
申请号CN200420047859.X申请日期2004-04-01
法律状态权利终止申报国家暂无
公开/公告日公开/公告号
优先权暂无优先权号暂无
主分类号暂无IPC分类号暂无查看分类表>
申请人台湾积体电路制造股份有限公司申请人地址
台湾省新竹科学工业园区 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人台湾积体电路制造股份有限公司当前权利人台湾积体电路制造股份有限公司
发明人杨育佳;杨富量
代理机构北京三友知识产权代理有限公司代理人王一斌
摘要
本实用新型揭示一种具有多方位的绝缘层上覆硅芯片。在单一绝缘层上覆硅芯片上形成有多种不同方位的孤立硅层,并且将P型晶体管设置于表面方位为(110)的孤立硅层上方,将N型晶体管设置于表面方位为(100)的孤立硅层上方。如此一来,P型晶体管会具有良好的电洞迁移率,N型晶体管会具有良好的电子迁移率。

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