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一种P型SiC欧姆接触电极的制作方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202010669334.3
  • IPC分类号:H01L21/28;H01L29/45
  • 申请日期:
    2020-07-13
  • 申请人:
    同辉电子科技股份有限公司
著录项信息
专利名称一种P型SiC欧姆接触电极的制作方法
申请号CN202010669334.3申请日期2020-07-13
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2020-10-16公开/公告号CN111785620A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L21/28IPC分类号H;0;1;L;2;1;/;2;8;;;H;0;1;L;2;9;/;4;5查看分类表>
申请人同辉电子科技股份有限公司申请人地址
河北省鹿泉区高新技术开发区昌盛大街21号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人同辉电子科技股份有限公司当前权利人同辉电子科技股份有限公司
发明人崔素杭;白欣娇;李帅;袁凤坡;李晓波;李婷婷;张乾
代理机构石家庄元汇专利代理事务所(特殊普通合伙)代理人周大伟
摘要
本发明涉及功率半导体封装技术领域,涉及一种P型SiC欧姆接触电极的制作方法,该方法的步骤依次包括;使用RCA清洗法清洗SiC衬底;使用干氧氧化法,使SiC衬底表面形成SiO2绝缘层;使用光刻工艺对SiO2绝缘层进行蚀刻,制作出掺杂窗口;形成P型掺杂SiC外延层;对SiC衬底进行等离子处理;在SiC衬底上依次沉积金属Ti、Co、Al;SiC衬底进行退火处理,形成欧姆接触电极;蚀刻掉未参与反应的金属以及欧姆接触电极表面的富铝层;在欧姆接触电极表面沉积金属Au,该制作方法可在较低的温度下实现P型SiC欧姆接触电极,同时可形成平整的、耐氧化的电极表面。

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