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一种半导体生产用除尘装置

实用新型专利有效专利
  • 申请号:
    CN202020990969.9
  • IPC分类号:B01D47/06;B01D53/00
  • 申请日期:
    2020-06-03
  • 申请人:
    耐而达精密工程(苏州)有限公司
著录项信息
专利名称一种半导体生产用除尘装置
申请号CN202020990969.9申请日期2020-06-03
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日公开/公告号
优先权暂无优先权号暂无
主分类号B01D47/06IPC分类号B;0;1;D;4;7;/;0;6;;;B;0;1;D;5;3;/;0;0查看分类表>
申请人耐而达精密工程(苏州)有限公司申请人地址
江苏省苏州市苏州工业园区唯和路50号2号厂房 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人耐而达精密工程(苏州)有限公司当前权利人耐而达精密工程(苏州)有限公司
发明人龙天明
代理机构上海宏京知识产权代理事务所(普通合伙)代理人乔建
摘要
本实用新型公开了一种半导体生产用除尘装置,包括第一箱体,所述第一箱体的内腔底部右侧焊接有水箱,所述水箱的外壁顶部螺丝连接有第一水泵,所述第一箱体的内腔顶部右侧焊接有雾化箱,所述雾化箱的内腔所述第一箱体的内腔顶部位于雾化箱的左侧螺丝连接有风机,所述第一箱体的内腔底部左侧螺丝连接有吸尘器,所述吸尘器和水箱之间螺丝连接有电机,所述第一箱体的外壁顶部右侧焊接有第二箱体,所述第二箱体的右侧螺丝连接有第二水泵,所述第一箱体的外壁底部设有毛刷。本实用新型能够有效的增强水雾的喷射距离,增大水雾除尘的覆盖面积,能够将空气清新液有效的混合进水雾中,对半导体生产车间的空气进行净化以及能够对车间的地面进行清理。

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