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形成有类金刚石碳薄膜的材料及用于制造该材料的方法

发明专利有效专利

申请号：
CN201010533692.8
IPC分类号：C23C14/06;C23C14/54
申请日期：
2010-10-22
申请人：
光田好孝;SMC株式会社

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	形成有类金刚石碳薄膜的材料及用于制造该材料的方法
申请号	CN201010533692.8	申请日期	2010-10-22
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2011-05-04	公开/公告号	CN102041473A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C23C14/06 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C2 冶金 C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕 C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆（挤压法制造包覆金属的产品入B21C23/22；通过将预先存在的薄层连接到制品上的方法用金属进行镀覆处理的见各有关位置，例如B21D39/00，B23K；玻璃的金属化入C03C；砂浆、混凝土、人造石、陶瓷或天然石的金属化入C04B41/00；金属的搪瓷或向金属上镀覆玻璃体层入c23D；用电解法或电泳法处理金属表面或镀覆金属入C25D；单晶膜生长入C30B；纺织品的金属化入D06M11/83；用局部金属化法装饰纺织品入D06Q1/04）〔4〕 C23C14/00 通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆〔4，2006.01〕 C23C14/06 以镀层材料为特征的（C23C 14/04优先）〔4〕	IPC分类号	C;2;3;C;1;4;/;0;6;;;C;2;3;C;1;4;/;5;4查看分类表>
申请人	光田好孝;SMC株式会社	申请人地址	日本国东京都目黑区驹场4丁目6番1号东京大学生产技术研究所内变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	光田好孝,SMC株式会社	当前权利人	光田好孝,SMC株式会社
发明人	光田好孝;野濑健二;森久祐弥
代理机构	上海市华诚律师事务所	代理人	梅高强;杜娟

摘要

一种形成有DLC薄膜的材料(10)，其中中间层(14)被设置在基材(12)与DLC薄膜(16)之间。该中间层(14)是包含类金刚石碳和来自基材(12)的组分金属原子的复合层。例如，该中间层(14)可通过如下步骤形成：在等离子体层形成工艺中，将负偏压施加到基材(12)上，同时随时间降低负偏压的绝对值。碳靶或烃类气体可用作碳源。

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