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包含大粒度热解法二氧化硅的抗反射膜

发明专利无效专利

申请号：
CN201280011106.0
IPC分类号：G02B1/111
申请日期：
2012-02-17
申请人：
3M创新有限公司

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法律信息

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著录项信息

专利名称	包含大粒度热解法二氧化硅的抗反射膜
申请号	CN201280011106.0	申请日期	2012-02-17
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日	2014-01-15	公开/公告号	CN103518148A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G02B1/111 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G02 光学 G02B 光学元件、系统或仪器（G02F优先；专用于照明装置或系统的光学元件入F21V 1/00至F21V 13/00；测量仪器见G01类的有关小类，例如，光学测距仪入G01C；光学元件、系统或仪器的测试入G01M 11/00；眼镜入G02C；摄影、放映或观看用的装置或设备入G03B；声透镜入G10K 11/30；电子和离子“光学”入H01J；X射线“光学”入H01J，H05G 1/00；结构上与放电管相组合的光学元件入H01J 5/16，H01J 29/89，H01J 37/22；微波“光学”入H01Q；光学元件与电视接收机的组合装置入H04N 5/72；彩色电视系统中的光学系统或装置入H04N 9/00；专门适用于透明或反射区的加热装置入H05B 3/84）〔1，7〕 G02B1/00 按制造材料区分的光学元件（光学玻璃的成分入C03C 3/00）；用于光学元件的光学涂层 G02B1/10 对光学元件表面涂覆或对其进行表面处理后所产生的光学涂层（G02B1/08优先）〔1，2015.01〕 G02B1/11 抗反射涂层〔6，2015.01〕 G02B1/111 使用包含有机材料的层〔2015.01〕	IPC分类号	G;0;2;B;1;/;1;1;1查看分类表>
申请人	3M创新有限公司	申请人地址	美国明尼苏达州变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	3M创新有限公司	当前权利人	3M创新有限公司
发明人	郝恩才;张俊颖;罗伯特·F·卡姆拉特;刘兰虹;程铭;吴荣圣;马克·J·佩莱里蒂;理查德·J·波科尔尼;苏雷什·S·耶尔
代理机构	北京天昊联合知识产权代理有限公司	代理人	丁业平;金小芳

摘要

本发明描述了抗反射膜，所述抗反射膜包括透光性基底和设置在所述透光性基底上的低折射率层。所述低折射率层包含可聚合树脂组合物的反应产物，所述可聚合树脂组合物包含至少20重量%的热解法二氧化硅。在一个实施例中，所述可聚合树脂为烯键式不饱和的。在一优选实施例中，从透光性基底界面到相对的多孔表面，所述低折射率层的孔隙度增大。

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