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基板处理装置

发明专利无效专利

申请号：
CN201510409339.1
IPC分类号：H01L21/67
申请日期：
2015-07-13
申请人：
细美事有限公司

基础信息

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	基板处理装置
申请号	CN201510409339.1	申请日期	2015-07-13
法律状态	驳回	申报国家	中国
公开/公告日	2016-01-20	公开/公告号	CN105261579A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	H01L21/67 ? IPC结构图谱： H 电学 H9 电学 H01 基本电气元件 H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件（使用半导体器件的测量入G01；一般电阻器入H01C；磁体、电感器、变压器入H01F；一般电容器入H01G；电解型器件入H01G 9/00；电池组、蓄电池入H01M；波导管、谐振器或波导型线路入H01P；线路连接器、汇流器入H01R；受激发射器件入H01S；机电谐振器入H03H；扬声器、送话器、留声机拾音器或类似的声机电传感器入H04R；一般电光源入H05B；印刷电路、混合电路、电设备的外壳或结构零部件、电气元件的组件的制造入H05K；在具有特殊应用的电路中半导体器件的使用见该应用的小类）〔2〕 H01L21/00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备〔2，8〕 H01L21/67 专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置〔8〕	IPC分类号	H;0;1;L;2;1;/;6;7查看分类表>
申请人	细美事有限公司	申请人地址	韩国忠淸南道天安市变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	细美事有限公司	当前权利人	细美事有限公司
发明人	崔重奉;金性洙;许瓒宁;权五珍
代理机构	北京中博世达专利商标代理有限公司	代理人	申健

摘要

本发明构思提供了一种基板处理装置，所述装置包括：处理容器，所述处理容器的顶端是开放的；基板支撑单元，所述基板支撑单元放置于处理容器中以支撑基板；处理液供应单元，所述处理液供应单元将处理液供应至放置于基板支撑单元上的基板；以及加热单元，所述加热单元放置于基板支撑单元中以加热基板。所述加热单元包括：加热元件和反射元件，所述反射元件将来自加热元件的热量向上反射。

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