造影成像设备及用于造影成像设备的探测器

发明专利有效专利

申请号：
CN201080067976.0
IPC分类号：G01T1/185
申请日期：
2010-05-06
申请人：
EOS成像公司

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著录项信息

专利名称	造影成像设备及用于造影成像设备的探测器
申请号	CN201080067976.0	申请日期	2010-05-06
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2013-03-20	公开/公告号	CN102985844A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G01T1/185 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G01 测量；测试 G01T 核辐射或X射线辐射的测量（材料的辐射分析，质谱测定法入G01N 23/00用以测定辐射或粒子的存在、强度、密度或能量的管入H01J 47/00） G01T1/00 X射线辐射、γ射线辐射、微粒子辐射或宇宙线辐射的测量（G01T 3/00，G01T 5/00优先）〔2〕 G01T1/16 辐射强度测量（G01T 1/29优先）〔2〕 G01T1/185 用电离室装置〔2〕	IPC分类号	G;0;1;T;1;/;1;8;5查看分类表>
申请人	EOS成像公司	申请人地址	法国巴黎变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	EOS成像公司	当前权利人	EOS成像公司
发明人	帕斯卡尔·戴索泰
代理机构	上海天协和诚知识产权代理事务所	代理人	童锡君

摘要

用于在造影中探测和定位电离X射线或伽玛射线的X射线探测装置，该装置包含：X射线探测器，其包用于将入射X射线光子束中的入射X射线光子转换为可探测的电荷的括转换装置；以及用于在探测器中通过非线性放大增益系数放大电荷的放大装置，该非线性放大增益被描述为在入射X射线光子高通量时放大增益的减小量；以及放大增益调节装置，其被配置以根据X射线源的放射参数改变放大装置中的放大增益，该X射线源提供入射X射线光子束和/或被传播光子束，该入射光子束用于执行造影检查，该被传播光子束由探测器从X射线源通过待成像主体获得。X射线成像设备及操作该射线成像设备的方法也被呈现。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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