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光学相干层析成像装置

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN200880111991.3
  • IPC分类号:G01B9/02
  • 申请日期:
    2008-10-17
  • 申请人:
    延世大学校产学协力团;MTC麦迪柯股份有限公司
著录项信息
专利名称光学相干层析成像装置
申请号CN200880111991.3申请日期2008-10-17
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日2010-11-17公开/公告号CN101889188A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G01B9/02IPC分类号G;0;1;B;9;/;0;2查看分类表>
申请人延世大学校产学协力团;MTC麦迪柯股份有限公司申请人地址
韩国首尔 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人延世大学校产学协力团,MTC麦迪柯股份有限公司当前权利人延世大学校产学协力团,MTC麦迪柯股份有限公司
发明人金法敏;李尚垣
代理机构北京天昊联合知识产权代理有限公司代理人顾红霞;何胜勇
摘要
本发明提供一种光学相干层析成像装置,其中,采用光源和光学线性光束形成系统以在短时间内在不受任何机械运动影响的情况下获得高质量分辨率的二维图像。因此,光学线性光束形成系统(20)包括半圆柱透镜(21)、凸透镜(22)和狭缝(23),以实现频域光学相干层析成像装置。来自光源的平行光束入射在半圆柱透镜(21)的表面上,并且半圆柱透镜(21)的焦线位于凸透镜(22)的前方。凸透镜(22)具有短焦点和长焦点,平行光成分会聚在短焦点上,发散光成分会聚在长焦点上。狭缝(23)位于短焦点和长焦点之间。

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