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全深度探测的频域光学相干层析成像的方法及其系统

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN200610028629.2
  • IPC分类号:G01N21/45;A61B5/00
  • 申请日期:
    2006-07-05
  • 申请人:
    中国科学院上海光学精密机械研究所
著录项信息
专利名称全深度探测的频域光学相干层析成像的方法及其系统
申请号CN200610028629.2申请日期2006-07-05
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2006-12-13公开/公告号CN1877305
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G01N21/45IPC分类号G;0;1;N;2;1;/;4;5;;;A;6;1;B;5;/;0;0查看分类表>
申请人中国科学院上海光学精密机械研究所申请人地址
上海市800-211邮政信箱 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人中国科学院上海光学精密机械研究所当前权利人中国科学院上海光学精密机械研究所
发明人步鹏;王向朝
代理机构上海新天专利代理有限公司代理人张泽纯
摘要
一种全深度探测的频域光学相干层析成像的方法及其系统,方法是利用正弦相位调制方法重建低相干光频域干涉信号的复振幅量,然后对该复振幅信号作逆傅立叶变换得到被测物体的层析图,以消除频域光学相干层析成像中存在的复共轭镜像、直流背景和自相干噪声三种寄生像,达到扩大频域光学相干层析成像的成像深度为原来的2倍,实现全深度探测的频域光学相干层析成像的目的。本发明与现有技术相比具有抗环境干扰能力强,对光源波长无关和系统结构简单的优点。

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