减少在处理工具中通过移动机构所产生的颗粒污染

发明专利有效专利

申请号：
CN201180025283.X
IPC分类号：H01L21/02;H01L21/00
申请日期：
2011-03-23
申请人：
朗姆研究公司

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著录项信息

专利名称	减少在处理工具中通过移动机构所产生的颗粒污染
申请号	CN201180025283.X	申请日期	2011-03-23
法律状态	授权	申报国家	暂无
公开/公告日	2013-01-30	公开/公告号	CN102906856A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	H01L21/02 ? IPC结构图谱： H 电学 H9 电学 H01 基本电气元件 H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件（使用半导体器件的测量入G01；一般电阻器入H01C；磁体、电感器、变压器入H01F；一般电容器入H01G；电解型器件入H01G 9/00；电池组、蓄电池入H01M；波导管、谐振器或波导型线路入H01P；线路连接器、汇流器入H01R；受激发射器件入H01S；机电谐振器入H03H；扬声器、送话器、留声机拾音器或类似的声机电传感器入H04R；一般电光源入H05B；印刷电路、混合电路、电设备的外壳或结构零部件、电气元件的组件的制造入H05K；在具有特殊应用的电路中半导体器件的使用见该应用的小类）〔2〕 H01L21/00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备〔2，8〕 H01L21/02 半导体器件或其部件的制造或处理〔2，8〕	IPC分类号	H;0;1;L;2;1;/;0;2;;;H;0;1;L;2;1;/;0;0查看分类表>
申请人	朗姆研究公司	申请人地址	美国加利福尼亚州变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	朗姆研究公司	当前权利人	朗姆研究公司
发明人	艾瑞克·H·伦兹
代理机构	上海胜康律师事务所	代理人	李献忠

摘要

在本文所描述的各种示例性实施方式中，公开了一种系统和相关的方法以减少衬底上的颗粒污染。该系统包括：衬底横移件机构，其具有导轨以传输衬底载体；一个或者多个横移件管道，其至少部分地围绕所述一个或多个导轨安置。所述一个或多个管道沿着所述导轨的长度的至少有效部分具有狭缝。横移件排气风机耦合连接到所述一个或多个横移件管道中的每一个的一端，所述风机提供充足的体积气流以使通过所述狭缝的所述体积气流的速率高于预定颗粒大小的最终沉降速率。所述风机进一步抽吸小于约所述预定颗粒大小的由所述衬底横移件机构产生的颗粒进入所述一个或多个横移件管道。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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