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一种高硅b‑取向ZSM‑5纳米片的合成方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN201610523697.X
  • IPC分类号:C01B39/40
  • 申请日期:
    2016-07-06
  • 申请人:
    华东师范大学
著录项信息
专利名称一种高硅b‑取向ZSM‑5纳米片的合成方法
申请号CN201610523697.X申请日期2016-07-06
法律状态权利终止申报国家暂无
公开/公告日2016-12-07公开/公告号CN106185978A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号C01B39/40IPC分类号C;0;1;B;3;9;/;4;0查看分类表>
申请人华东师范大学申请人地址
上海市闵行区东川路500号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人华东师范大学当前权利人华东师范大学
发明人陈丽;丁键;施宗波;吴海虹;何鸣元
代理机构上海蓝迪专利商标事务所(普通合伙)代理人徐筱梅;张翔
摘要
本发明公开了一种高硅b‑取向ZSM‑5纳米片的合成方法,其特点是将铝源与氨水、无机盐和水混合,搅拌后缓慢滴加硅源,然后均速加入模板剂和晶种,在120~190 oC温度下晶化反应24~48小时,反应结束后经过滤、干燥得具有高硅b‑取向的ZSM‑5纳米片。本发明与现有技术相比具有高活性、晶粒超薄、高硅b‑取向、硅铝比可调、厚度可控、晶体完美和水热稳定性强的ZSM‑5纳米片,较好的克服了制备纳米片沸石催化剂需使用特定结构、价格昂贵的结构导向剂或二次模板剂,降低了制备成本,合成产率高,具有一定的工业化运用前景和显著的经济价值。

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