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一种无应力电化学抛光铜时去除二氧化硅的方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201510724177.0
  • IPC分类号:H01L21/306;H01L21/311
  • 申请日期:
    2015-10-29
  • 申请人:
    上海集成电路研发中心有限公司
著录项信息
专利名称一种无应力电化学抛光铜时去除二氧化硅的方法
申请号CN201510724177.0申请日期2015-10-29
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2016-03-09公开/公告号CN105390384A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L21/306
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IPC结构图谱:
IPC分类号H;0;1;L;2;1;/;3;0;6;;;H;0;1;L;2;1;/;3;1;1查看分类表>
申请人上海集成电路研发中心有限公司申请人地址
上海市浦东新区张江高斯路497号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人上海集成电路研发中心有限公司当前权利人上海集成电路研发中心有限公司
发明人胡正军;李铭;陈寿面;赵宇航;周炜捷
代理机构上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙)代理人吴世华;尹英
摘要
本发明公开了一种无应力电化学抛光铜时去除二氧化硅的方法,在超低介电材料的双大马士革集成工艺中,通过将传统的铜化学机械抛光法与新型的铜无应力电化学抛光法相结合运用,在采用化学机械抛光粗研磨去除大部分铜层后,再采用无应力电化学抛光法去除剩余的铜层,然后通过干法刻蚀去除阻挡层和金属硬掩膜,并引入NH3、NF3在等离子体状态下干法刻蚀去除二氧化硅,从而降低了采用无应力电化学抛光后的金属同层电容,可提高无应力电化学抛光铜在超低介电材料的双大马士革集成工艺中的工艺能力,充分发挥其优点,并可利用现有的干法刻蚀腔体,容易实现工艺的整合。

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